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    6位华人学者当选美国国家工程院院士

    美国国家工程院院2010年1月13日 9:24 点击:2900

    美国国家工程院院长Charles M. Vest2月10日在华盛顿宣布,该院新增选一批院士及外籍院士。此次新增院士共65名,外籍院士共9名。至此,美国国家工程院院士已达2227名,外籍院士达到194名。
     
    美国国家工程院是美国工程科技界最高水平的学术机构,成立于1964年12月,是世界上较有影响的工程院之一。当选美国国家工程院院士是工程领域专家的最高专业荣誉之一。
     
    在这次新增的工程院院士中,总共有6人为华人学者。
     
    1.
     

    Frank Chang

    Mau-Chung Frank Chang,professor,electrical engineering department,University of California,Los Angeles. For the development and commercialization of GaAs power amplifiers and integrated circuits.
     
    Frank Chang,来自中国台湾。1972年毕业于台大物理系。1979年毕业于台湾交通大学并获电子工程系博士学位。目前是加州大学洛杉矶?#20013;?#30005;子工程系的全职教授和高速电子设备实验?#19994;?#20027;任。
     
     
    2.
     

    程正迪

    Stephen Z.D. Cheng,dean,College of Polymer Science and Polymer Engineering,University of Akron,Akron,Ohio. For the development of materials for liquid crystal displays and the elucidation of structure-property relationships in polymeric materials.
     
    程正迪,来自中国大陆。1949年生于上海,1977年毕业于华东师范大学数学系(学士),1981和1985年先后获中国纺织大学(现东华大学)化学纤维系硕士和美国RENSSELAER理工学院(RPI)化学系博士学位,师从著名高分子物理学家Bernhard Wunderlich教授,在本系做了2年的博士后之后,于1987年入AKRON大学高分子科学系任助理教授、副教授,并于1995年晋升教授。1996年被聘为?#26412;?#22823;学客座教授,并自1994年起任国内多所大学或研究所客座和顾?#24335;?#25480;。曾获美国总?#22478;?#24180;科学家奖(1991)、美国物理学会JOHN H. DILLON奖章(1995)、北美热分析学会METTLER-TOLEDO奖(1999)等多项奖励。现为AKRON大学Robert C. Musson & Trustees讲座教授和高分子科学系主任、Polymer杂志北美资深主编、?#26412;?#22823;学高分子化学与物理长江讲座教授。
     
     
    3.
     

    Lee-Lueng Fu

    Lee-Lueng Fu,senior project scientist,Jet Propulsion Laboratory,Pasadena,Calif. For contributions to the development of satellitealtimetry and applications in oceanography,geodesy,and climatology.
     
    Lee-Lueng Fu,来自中国台湾。1972年毕业于台大物理系。1980年获MIT博士学位。目前是加州理工大学,美国宇航局著名的喷气动力实验室(JPL)的资深研究科学家。是JPL海洋科学研究部门的领导人。
     
     
    4.(照片无)
     
    Burn-Jeng Lin,senior director,Nanopatterning Technology,Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.,Ltd.,Taiwan,Republic of China. For technical innovations and leadership in the development of lithography for semiconductor manufacturing.
     
    Burn-Jeng Lin,林本坚,来自台湾的著名半导体公司台积电(TSMC)。是台积电光刻部门高级总监。是台积电在.90,.65和.22纳米芯片工艺方面的最大功臣。
     
     
    5.
     

    Zhigang Suo,Allen E. and Marilyn M. Puckett Professor of Mechanics and Materials,School of Engineering and Applied Sciences,Harvard University,Cambridge,Mass. For fundamental and applied contributions to the thermo-mechanical performance of electronic material systems,actuator materials,and composites.
     
    锁志刚,来自中国大陆。现为哈佛大学机械与材料系终身教授。创办了专注于结构力学讨论的播客论坛www.imechanica.org。锁志刚教授1985年毕业于西安交大力学系,1987年在美国哈佛大学获硕士学位。1989年在美国哈佛大学获博士学位。1989—1992年在美国加州大学圣巴拉拉?#20013;?#20219;助理教授。1992—1995年在美国加州大学圣巴拉拉?#20013;?#20219;副教授。1995—1997年在美国加州大学圣巴拉拉?#20013;?#20219;终身教授。1997—2003年在美国普林斯顿大学任终身教授。2003年7月至今任美国哈佛大学终身教授。获奖情况:1992年获美国总统奖。1994年获全美青年工程师金质大奖。1994年获德国洪堡基金会洪堡高级大奖。1996年获ALCOA基金会研究奖。1999年获普林斯顿大学工程委员会教学优秀奖。2000年获普林斯顿大学工程委员会教学优秀奖。2000年获计算机工程及科学国际会议Eric Reissner奖。2001年获全美机械工程学会应用力学奖。2008年当选美国工程院院士。
     
     
    6.
     

    William W-G. Yeh

    William W-G. Yeh,distinguished professor and chair,department of civil and environmental engineering,University of California,Los Angeles. For the development of methodologies for optimizing the management of water resources,and for inverse methods of estimating subsurface parameters.
     
    William W-G Yeh,来自中国台湾。1961年获台湾交通大学学士学位,1964年获美国新墨西哥州立大学硕士学位,1967年获斯坦福大学博士学位。目前为加州大学洛杉矶?#20013;?#22303;木工程系的杰出终身教授。
     
    更多阅读(英文)
     
    (来源: 美国国家工程院院 )


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