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    现在位置首页>物性测试仪器>物理光学仪器>物理光学仪器> 日本Olympus镜片反射率测定仪USPM-RUⅢ

    商品编号:52881
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    日本Olympus镜片反射率测定仪USPM-RUⅢ

    价    格:询价

    产    地:日本更?#29575;?#38388;:2019/7/15 13:41:34

    品    牌:奥林巴斯型    号:USPM-RUⅢ

    状    态:正常点击量:4379

    86-10-65693535
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    奥林巴斯(?#26412;?#38144;售服务有限公司

    联 系 人:奥林巴斯

    电     话:86-10-65693535

    传     真:010-65611158

    等     级: (第 13年)

    性     质:生产型,

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    概要
      USPM-RUⅢ是在原USPM-RU仪器上开发出的换代产品,是镜片反射率测定仪的新机型。薄镜片也不受背面反射光的影响,能实现高速、高精度的分光测定。
    特征
    消除背面反射光
      采用特殊光学系,消除背面反射光。不必进行背面的防反射处理,可正确测定表面的反射率。
    可测定微小领域的反射率
      用对物镜对焦于被测面的微小区域(φ60μm),可测定镜片曲面及镀膜层脱落。
    测定时间短 
      使用Flat Field Grating(平面光栅)和线传感器的高速分光测定,可迅速实现再现性很高的测定。
    XY色度图、L*a*b*测定可能
      以分光测定法为基准,从分光反射率情况可测定物体颜色。
    Hard Coat(高强度镀膜)膜厚测定可能
      用干涉光分光法,可以不接触、不破坏地测定被测物的膜厚(单层膜)。
    主要用途

    • 各种透镜(眼镜透镜、光读取头镜片等)
    • 反射镜、棱镜以及其他镀膜部品等的分光反射率、膜厚测定(单层膜)

    与原产品的主要区别

    • 采用全新的USPM-RUⅢ专用框架及设计,提高了操作性能。
    • 受台Z方向的移动范围从35mm(原产品)扩大到了85mm。
    • 电源规格可对应AC100V以及AC220V。 (请您在下订单时注明电源规格。)
    • 优化了软件的功能。(可显示10次测定的功能等)
    • XY受台移动方向增加了比例尺。
    • 更换卤灯时不需调整灯的位置。
    • PC与Interface采用了US?#29575;?#36830;接。

    产品参数

    测定波长 380nm~780nm
    测定方法 与参照试料的比较测定
    被测物N.A. 0.12(使用10×对物镜时)
    0.24(使用20×对物镜时)
    ※与对物镜的N.A不同
    被测物W.D. 10.1mm(使用10×对物镜时)
    3.1mm(使用20×对物镜时)
    被测物的曲率半径 -1R~-∞、+1R~∞
    被测物的测定范围 约φ60μm(使用10×对物镜时)
    约φ30μm(使用20×对物镜时)
    被测物再现性 ±0.1%以下(2σ)(380nm~410nm测定时)
    ±0.01%以下(2σ)(410nm~700nm测定时)
    表示精度 1nm
    测定时间 数秒~十数秒(因取样时间各异)
    光源规格 卤灯 12V100W
    装置重量 本体:约20kg(电脑、打印机除外)
    光源用电源:约3kg、控制器:约8kg
    装置尺寸 本体:300(W)×550(D)×570(H)mm
    光源用电源:150(W)×250(D)×140(H)mm
    控制器盒:220(W)×250(D)×140(H)mm
    电源规格 光源用电源:100V (2.8A)/220V AC
    控制器盒:100V(0.2A)/220V AC
    使用环境 水平且无振动的场所
    温度:23±5℃
    湿度:60%以下、无结露
    软件 ■测定参数设定
    • 保存环境文档、可读取
    ■分光反射率测定
    • 设定参考值(固定值、分散式、可选择文档数据)
    • 取样时间设定
    • 判定是否合格
    • 波长方向刻度
    ?#37995;?#20307;颜色测定
    • XY色度图、L*a*b*色度图
    • 标准光源设定(A、B、C、D65)
    • 视野设定(2°视野、10°视野)
    ■膜厚(单层膜)测定
    • 镀膜材料折射率
    *作为特别订货,可对应测定波长为440nm~840nm。

    1. 本装置不保证为Traceability体系中的绝对精度。



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